Установка вакуумного напыления УВН-74П-3М-3, предназначена для двухстороннего нанесения многослойных металлических пленок на поликоровые и ситалловые подложки методами термического и магнетронного вакуумного напыления при производстве гибридно-пленочных микросхем.
Максимальное количество единовременно обрабатываемых подложек размером 60х48х(0,5…1,0) мм 40 шт.
Напыление адгезионного слоя осуществляется с помощью резистивного испарителя по контролю заданного сопротивления слоя на свидетеле.
Напыление остальных слоев осуществляется с помощью двух магнетронных испарителей по заданному времени.
Электрическое питание магнетронов униполярное.
Время достижения остаточного давления 4 х 10-4 Па в рабочей камере после открытия высоковакуумного затвора не более 80 мин
Установка обеспечивает:
-регулирование скорости вращения барабана с подложками в диапазоне от 10 до 60 об/мин;
-нагрев барабана до 300 °С;
-контроль сопротивления свидетеля напыления пленки на подложки в диапазоне от 0 до 25...
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков