Кластерная линия фотолитографии - набор технологических модулей, осуществляющих различные виды фотолитографической обработки. Модули размещены в контролируемой воздушной среде на общей несущей раме замкнутой конфигурации и объединены единым транспортным устройством в виде специализированного робота.
Кластерная линия фотолитографии объединяет операции формирования фоторезистивной маски для технологического процесса с проектными нормами до 0.35÷0,18 мкм на пластинах диаметром 150 и 200 мм и представляет собой высокотехнологичное оборудование для выполнения этапов очистки пластин, обработки промотором адгезии, нанесения фоторезиста, сушки, термостабилизации, проявления.
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков