Установка молекулярного наслаивания (Атомно-слоевого осаждения, ALD) предназначена для наслаивания функциональных, канфорных нанопокрытий толщиной от 1нм на подложки из различных материалов. Нанопокрытия могут быть оксидами, нитридами, фторидами, фульфидами и пр.
Области применения: -микроэлектроника; -наноэлектроника; -сенсорное приборостроение; -солнечная энергетика; -сорбционнокаталитические процессы; -мембранные технологии; -создание возобновляемых источников энергии; - медицина.
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков