Групповая или индивидуальная обработка подложек в одном технологическом цикле: 60х48 мм – 3 шт.; Ø 76, 100, 150 – 1 шт.;
ВЧ электрод с охлаждением подложек;
Скорости травления 0,5 — 1,5 мкм/мин;
Измерение ВЧ смещения на ВЧ электроде подложкодержателе от 0 до 1000В;
Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ВЧ ICP источника плазмы в диапазоне 400-600 Вт;
Мощность потребления не более 7 кВт;
Рабочие газы: O₂, SF₆, C₄F₈, CHF₃ и др.;
Безмасляная система откачки;
Возможность встраивания в чистую комнату.
Напишите что вам нужно и получите предложения от проверенных поставщиков